反応性ガス雰囲気中でも１０００℃加熱が出来る方式です。レーザーアブレーション装置、スパッタ装置、ＣＶＤ装置をはじめ、幅広い実績を有しています。大型基板でも温度分布のよい加熱が出来ます。また、ユニットのみとしても対応可能です。
