ランプ加熱機構

高速昇温-降温加熱に最適です。光源にハロゲンランプを使用し、反射鏡に工夫を加え超高真空中でも反応ガス雰囲気中でも１０００℃加熱が出来ます。真空アニール装置、CVD装置、レーザーアブレーション（PLD)装置等に使われております。また、メンテナンスが容易で安価である特徴を有しています。

基板サイズとしてφ１インチ~φ２インチまで対応しております。
今後、基板サイズの大型化を目指して開発を進めています。