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本機構は成膜装置内部基板に近接した位置に設置され、成膜移動させる事により各種のマスクパターンに従った形状の成膜を基板上に転写する事が出来ます。同一基板上に異なる性質を持った膜を生成することが出来るので、目的の条件を効率よく探せます。
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